熔塊爐是一種通用的加熱設備，如何讓其更長久的使用呢?
1.定期檢查熔塊爐各部分熱線有否松動，交流接觸器的觸頭是否良好，出現故障應及時修復。
2.儀器應放在干燥通風、無腐蝕性氣體的地方，工作環(huán)境溫度為10—50℃，相對溫度不大于85%。
3.硅碳棒型爐子，發(fā)現硅碳棒損壞后，應更換規(guī)格相同并且電阻值相近的新硅碳棒。更換時先卸下熔塊爐兩端保護罩與硅碳棒夾頭，然后取出已損壞的硅碳棒，由于硅碳棒易斷，安裝時須小心，兩端露爐殼外部分應相等，夾頭必須緊固，使之與硅碳棒接觸良好。如果夾頭有嚴重氧化時應換新的。硅碳棒兩端安裝孔處的隙縫應用石棉繩堵塞。
熔塊爐爐溫不得超過zui高工作溫度1400℃。硅碳棒在zui高溫度下允許連續(xù)工作4小時。
另外，硅碳棒電熱元件是一種以碳化硅為主要原料制成的非金屬電熱元件，具有膨脹系數小、不易變形、化學穩(wěn)定性強、使用壽命長、安裝維修方便等特點。硅碳棒表面負荷=額定功率/發(fā)熱部表面積(W/cm2)
高溫熔塊爐的硅碳棒表面負荷大小與其使用壽命長短關系很大，因此，在通電加熱時要嚴格控制在允許負荷范圍之內，切忌超負荷使用。
熔塊爐主要用于陶瓷、玻璃、搪瓷等行業(yè)實驗室制備熔塊、玻璃低溫熔劑、搪瓷釉和結合劑，也可滿足小型企業(yè)作生產設備之用。
熔塊爐爐體采用雙層爐殼構造，雙層爐殼之間裝有風機，能夠盡快升降溫，爐殼外表溫度低。爐膛資料采用優(yōu)質的進口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節(jié)能80%，加熱元件采用硅鉬棒加熱。
通常，熔塊爐的爐溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調理技術，具有PID調理、含糊控制、自整定才能并可編制各種升溫程序等功用，該控制系統(tǒng)溫度顯現精度為1℃，溫場穩(wěn)定度±1℃，升溫速率1~40℃可恣意設置。
華熔高溫熔塊爐廠家生產的熔塊爐系列，額定溫度分別為1200℃、1400℃、1600℃、1700℃，運用不同的加熱元件，型號齊全，平安牢靠，同時也可滿足于不同工藝實驗而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫構造陶瓷的燒結、玻璃的精細退火與微晶化、晶體的精細退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米資料的燒結、金屬零件淬火及一切需盡快升溫工藝請求的熱處置，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和消費設備。
熔塊爐電爐絲在高溫環(huán)境中使用，表面會形成保護性氧化膜，氧化膜存在一段時間后又會發(fā)生老化，形成不斷生成和被破壞的循環(huán)過程，這個過程也就是電爐絲內部元素不斷消耗的過程，直徑和厚度較大的電爐絲元素含量更多，使用壽命也就較長。
高溫熔塊爐電爐絲本身具有一定的抗腐蝕能力，但是在高溫環(huán)境中，電爐絲的抗腐蝕能力是會有所下降的，同時電爐絲在電爐帶有腐蝕性的氣氛中工作時，所能到達的使用溫度也會受到影響，因此在選擇電爐絲時，需要要考慮它的工作氣氛，如碳氣氛、硫氣氛等。
熔塊爐電爐絲在生產過程中有抗養(yǎng)護處理，但是由于運輸、安裝等各種原因，電爐絲在使用前可能或多或少的會存在一定損傷，這時可以對電爐絲進行預氧化處理，將安裝電爐絲設備在干燥空氣中通電至所能達到上限溫度的使用溫度降低100℃~200℃之間，維持5到10個小時后緩慢冷卻即可。
熔塊爐用于各種工礦企業(yè)，大專院校，科研單位作元素分析，小型鋼件淬火，退火，回火時加熱，還可作金屬，陶瓷的燒結，溶解，分析等高溫加熱用。箱體設計新型美觀，采用毛面噴塑，爐門內側和箱體口面板均采用優(yōu)質不銹鋼，確保儀器經久耐用。
爐上按裝有耐壓抗高溫的鑄鋼爐底板，以承載工件之用。為了防止工件加熱后產生的氧化皮通過熔塊爐底板間的縫隙落入加熱元件周圍而造成加熱元件損壞，因此爐底板與爐體接觸處采用插入式接觸。
熔塊爐采用帶程序微電腦控制，具有強大的編程功能，可控制升溫速率，升溫，恒溫，多波段曲線任意設置，選配軟件可連接計算機，監(jiān)控，記錄溫度數據，使任何試驗的再現性成為可能。儀器裝備觸電，漏電保護系統(tǒng)和二級超溫自動保護功能。